出版社内容情報
薄膜を初めて作る人のために書かれた入門書．真空蒸着法，スパタリング法，プラズマプロセスによる薄膜作製技術が詳細に解説され，また初心者に必要な基礎知識が分かりやすく書かれている．旧版発行後１０年間の進展を新たに記述し，全面的に改訂している．
目次
１． はじめに
２． 薄膜作製に必要な真空装置の基礎（基本的な真空装置；真空ポンプの原理）
３． 真空蒸着法（基本的な公式；蒸着薄膜作製の具体例）
４． スパタリング法（スパタリングの基本；基本的なスパタリング装置―二極直流スパタリング法）
５． プラズマプロセス（プラズマＣＶＤ；イオンプレーティング）
６． 膜厚測定法（膜厚とは何か；繰返し反射干渉法；電気抵抗法）
７． 関連技術（単結晶薄膜の作製技術；非晶質薄膜の作製技術；電極の蒸着）
