目次
第1章 薄膜に頼る電子技術の進歩
第2章 薄膜の基礎になる物理常識
第3章 薄膜を作る方法
第4章 薄膜の成長過程、基本特性、評価
第5章 よい薄膜を作る条件
第6章 垂直磁気記録と薄膜
第7章 LSI、量子効果デバイスとスピントロニクス
著者等紹介
小林春洋[コバヤシハルヒロ]
大正14年福島県に生まれる。昭和24年東北大学電気工学科卒業。昭和31年東北大学工学部助教授。昭和31年日本電気(株)入社、電子装置(事)開発部長。昭和48年日電アネルバ(株)(現、キヤノンアネルバ(株))入社、常務取締役。昭和60年(株)トーキン、特別顧問。昭和63年同退職。現在、コンサルタント(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
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