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プラズマプロセスによる薄膜の基礎と応用
市村博司, 池永勝著. -- 日刊工業新聞社, 2005. <BB01171681>
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No.
巻号
所蔵館
配置場所
請求記号
資料ID
状態
コメント
返却予定日
予約
0001
高知高専
開架
549.8||216
W68767
0件
No.
0001
巻号
所蔵館
高知高専
配置場所
開架
請求記号
549.8||216
資料ID
W68767
状態
コメント
返却予定日
予約
0件
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書誌詳細
標題および責任表示
プラズマプロセスによる薄膜の基礎と応用 / 市村博司, 池永勝著
プラズマ プロセス ニヨル ハクマク ノ キソ ト オウヨウ
出版・頒布事項
東京 : 日刊工業新聞社 , 2005.2
形態事項
ix, 276p : 挿図 ; 21cm
巻号情報
ISBN
4526054208
その他の標題
標題紙タイトル:Thin films
その他の標題
異なりアクセスタイトル:薄膜の基礎と応用 : プラズマプロセスによる
ウスマク ノ キソ ト オウヨウ : プラズマ プロセス ニヨル
注記
参考文献: 各章末
学情ID
BA71274597
本文言語コード
日本語
著者標目リンク
市村, 博司(1941-)
イチムラ, ヒロシ <NC:DA14898713>
著者標目リンク
池永, 勝
イケナガ, マサル <NC:DA02886342>
分類標目
電子工学 NDC9:549.8
件名標目等
薄膜||ハクマク
件名標目等
プラズマ||プラズマ
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