内容説明
プロセスフローを例にして基礎から発展までの技術が豊富なイラストで手に取るようにわかる。
目次
リソグラフィ技術とは引き算のプロセス？
光リソグラフィの発展
露光技術と装置
レジスト材料
レジスト塗布と現像
マスクとリソグラフィ技術
ＥＵＶリソグラフィ
リソグラフィの計測技術
多彩なパターニング技術
ＣＭＯＳロジックプロセス（フロントエンド）
ａ－Ｓｉ ＴＦＴプロセス
ａ－Ｓｉ太陽電池プロセス
著者等紹介
佐藤淳一［サトウジュンイチ］
京都大学大学院工学研究科修士課程修了。１９７８年、東京電気化学工業（株）（現ＴＤＫ）入社。１９８２年、ソニー（株）入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、半導体先端テクノロジーズ（セリート）創立時に出向、長崎大学工学部非常勤講師などを経験。現在はナノフロント研究所代表として半導体技術コンサルタント、テクニカルライターとして活動。応用物理学会員（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
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