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	プラズマ/プロセスの原理 Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg著 ; 佐藤久明訳. -- EDリサーチ社, 2001. <BB01378939> 登録タグ：登録されているタグはありません便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じる詳細情報を見る書誌URL：

プラズマ/プロセスの原理 Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg著 ; 佐藤久明訳. -- EDリサーチ社, 2001. <BB01378939> 登録タグ：登録されているタグはありません便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じる詳細情報を見る書誌URL：

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No.	巻号	所蔵館	配置場所	請求記号	資料ID	状態	コメント	返却予定日	予約
0001		明石高専	研究室	427\|\|6\|\|L	098093				0件


No.	0001
巻号
所蔵館	明石高専
配置場所	研究室
請求記号	427\|\|6\|\|L
資料ID	098093
状態
コメント
返却予定日
予約	0件

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書誌詳細

標題および責任表示	プラズマ/プロセスの原理 / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg著 ; 佐藤久明訳プラズマプロセスノゲンリ
出版・頒布事項	東京 : EDリサーチ社 , 2001.11
形態事項	xxi, 430p : 挿図 ; 26cm
その他の標題	原タイトル:Principles of plasma discharges and materials processing
注記	監修堀勝
注記	参考文献: p419-423
学情ID	BA54690460
本文言語コード	日本語
著者標目リンク	*Lieberman, M. A. (Michael A.) <NC:DA00127985>
著者標目リンク	Lichtenberg, Allan J <NC:DA00127974>
分類標目	電磁気学 NDC8:427.6
分類標目	LCC:QC718.5.D9
分類標目	DC20:530.4/4
件名標目等	Plasma dynamics
件名標目等	Thin films -- Surfaces
件名標目等	Plasma etching
件名標目等	Plasma chemistry

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