出版社内容情報
薄膜を初めて作る人のために書かれた入門書.真空蒸着法,スパタリング法,プラズマプロセスによる薄膜作製技術が詳細に解説され,また初心者に必要な基礎知識が分かりやすく書かれている.旧版発行後10年間の進展を新たに記述し,全面的に改訂している.
目次
1. はじめに
2. 薄膜作製に必要な真空装置の基礎(基本的な真空装置;真空ポンプの原理)
3. 真空蒸着法(基本的な公式;蒸着薄膜作製の具体例)
4. スパタリング法(スパタリングの基本;基本的なスパタリング装置―二極直流スパタリング法)
5. プラズマプロセス(プラズマCVD;イオンプレーティング)
6. 膜厚測定法(膜厚とは何か;繰返し反射干渉法;電気抵抗法)
7. 関連技術(単結晶薄膜の作製技術;非晶質薄膜の作製技術;電極の蒸着)