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半導体イオン注入技術
蒲生健次編著. -- 産業図書, 1986. -- (集積回路プロセス技術シリーズ). <BB01172230>
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半導体イオン注入技術
蒲生健次編著. -- 産業図書, 1986. -- (集積回路プロセス技術シリーズ). <BB01172230>
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所蔵館
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予約
0001
長野高専
図書館(閲覧)
549.8||G18
20023793
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No.
0001
巻号
所蔵館
長野高専
配置場所
図書館(閲覧)
請求記号
549.8||G18
資料ID
20023793
状態
コメント
返却予定日
予約
0件
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書誌詳細
標題および責任表示
半導体イオン注入技術 / 蒲生健次編著
ハンドウタイ イオン チュウニュウ ギジュツ
出版・頒布事項
東京 : 産業図書 , 1986.7
形態事項
212p ; 22cm
巻号情報
ISBN
4782856245
書誌構造リンク
集積回路プロセス技術シリーズ||シュウセキ カイロ プロセス ギジュツ シリーズ <BB00383437>//a
注記
各章末:参考文献
学情ID
BN00623257
本文言語コード
日本語
著者標目リンク
蒲生, 健次
ガモウ, ケンジ <NC:DA00678978>
分類標目
電子工学 NDC8:549.8
分類標目
科学技術 NDLC:ND371
件名標目等
半導体||ハンドウタイ
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