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プロセスの低温化

西澤潤一編. -- 工業調査会, 1985. -- (半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 21巻 . 超LSI技術 ; 8). <BB00816803>
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プロセスの低温化

西澤潤一編. -- 工業調査会, 1985. -- (半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 21巻 . 超LSI技術 ; 8). <BB00816803>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 返却予定日 予約
0001 長野高専 図書館(閲覧) 549.8||H29||21 20023818 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 長野高専
配置場所 図書館(閲覧)
請求記号 549.8||H29||21
資料ID 20023818
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 プロセスの低温化 / 西澤潤一編
プロセス ノ テイオンカ
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1985.3
形態事項 10, 331p, 挿図 ; 27cm
巻号情報
ISBN 4769310439
書誌構造リンク 半導体研究 / 半導体研究振興会編||ハンドウタイ ケンキュウ <BB00473039> 21巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 8//bb
注記 執筆: 石川潔ほか
注記 各章末: 参考文献
学情ID BN00282757
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 西澤, 潤一(1926-)
ニシザワ, ジュンイチ <NC:DA00235944>
分類標目 電子工学 NDC8:549
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
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