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フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える

田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著. -- 工業調査会, 1996. <BB01294205>
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フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える

田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著. -- 工業調査会, 1996. <BB01294205>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 返却予定日 予約
0001 富山(本郷) 開架図書 549.8||Ta83 1000123529 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 富山(本郷)
配置場所 開架図書
請求記号 549.8||Ta83
資料ID 1000123529
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える / 田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著
フォトマスク ギジュツ ノ ハナシ : チョウLSI エキショウ プリントバン オ ササエル
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1996.8
形態事項 262p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4769311494
その他の標題 その他のタイトル:超LSI、液晶、プリント板を支えるフォトマスク技術のはなし
チョウLSI エキショウ プリントバン オ ササエル フォトマスク ギジュツ ノ ハナシ
注記 参考文献: 各章末
学情ID BN15133386
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 田辺, 功(1937-)
タナベ, イサオ <NC:DA11611775>
著者標目リンク 竹花, 洋一
タケハナ, ヨウイチ <NC:DA11611786>
著者標目リンク 法元, 盛久
ホウガ, モリヒサ <NC:DA11611797>
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 NDC7:549.8
分類標目 科学技術 NDLC:ND386
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
件名標目等 集積回路||シュウセキカイロ
件名標目等 リソグラフィー||リソグラフィー
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