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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現
高橋清 [ほか] 編著. -- 工業調査会, 1994. <BB01134541>
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巻号
所蔵館
配置場所
請求記号
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状態
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返却予定日
予約
0001
群馬高専
図書_開架
549.95||Ta33
1073266
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No.
0001
巻号
所蔵館
群馬高専
配置場所
図書_開架
請求記号
549.95||Ta33
資料ID
1073266
状態
コメント
返却予定日
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書誌詳細
標題および責任表示
光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著
ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン ・ ムソンショウカ オ ジツゲン
出版・頒布事項
東京 : 工業調査会 , 1994.3
形態事項
266p ; 21cm
巻号情報
ISBN
4769311222
注記
執筆者: 西澤潤一ほか
注記
章末: 参考文献
学情ID
BN10527941
本文言語コード
日本語
著者標目リンク
高橋, 清(1934-)
タカハシ, キヨシ <NC:DA00131075> [ほか]編著
著者標目リンク
西澤, 潤一(1926-)
ニシザワ, ジュンイチ <NC:DA00235944>
分類標目
電子工学 NDC8:549.8
分類標目
電子工学 NDC8:549
件名標目等
半導体||ハンドウタイ
件名標目等
光化学||コウカガク
件名標目等
電子部品||デンシブヒン
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