群馬工業高等専門学校

Principles of plasma discharges and materials processing

Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg. -- 2nd ed. -- Wiley-Interscience, 2005. <BB00355674>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 返却予定日 予約
0001 群馬高専 図書_開架 427.6||L62 3110426 0件
0002 群馬高専 図書_開架 427.6||L62 3113347 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 群馬高専
配置場所 図書_開架
請求記号 427.6||L62
資料ID 3110426
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
No. 0002
巻号
所蔵館 群馬高専
配置場所 図書_開架
請求記号 427.6||L62
資料ID 3113347
状態
コメント
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

標題および責任表示 Principles of plasma discharges and materials processing / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
版事項 2nd ed
出版・頒布事項 Hoboken, N.J. : Wiley-Interscience , c2005
形態事項 xxxv, 757 p. : ill. ; 25 cm
巻号情報
ISBN 0471720011
注記 Includes bibliographical references (p. 735-748) and index
学情ID BA72469354
本文言語コード 英語
著者標目リンク *Lieberman, M. A. (Michael A.) <NC:DA00127985>
著者標目リンク Lichtenberg, Allan J <NC:DA00127974>
分類標目 LCC:QC718.5.D9
分類標目 DC22:530.4/4
件名標目等 Plasma dynamics
件名標目等 Thin films -- Surfaces
件名標目等 Plasma etching
件名標目等 Plasma chemistry -- Industrial applications