出版社内容情報
材料と加工技術を最新の知見をもとに詳しく解説〔内容〕光学結晶材料／光学ガラス材料／光電子有機材料／光デバイス用半導体材料／分布屈折率形成技術／レーザ光化学加工技術／電子ビーム加工と技術／光CVD技術／イオンビーム技術
【目次】
1. 総論――オプトエレクトロニクスデバイスと材料
1.1 オプトエレクトロニクス
1.2 光電子機器
1.3 光通信
1.4 光計測
1.5 光記録
1.6 プリンター，コピーマシン，ファクシミリ
1.7 光コンピューター
2. 結晶光学材料
2.1 結晶
2.2 結晶の光学的性質
2.3 外力によって生ずる屈折率変化
2.4 位相差と光量
2.5 偏光面の旋回
2.6 光の変復調
2.7 結晶の下降
3. 光学ガラス材料
3.1 レーザーガラス
3.2 ファラデー回転ガラス
3.3 音響光学ガラス
3.4 異常分散ガラス
3.5 アサーマルガラス
3.6 プレスレンズ
4. 光・電子機能性高分子
4.1 導電性高分子
4.2 圧電・焦電性高分子
4.3 非線形光学有機材料
5. 光デバイス用半導体材料
5.1 半導体材料の電気光学特性
5.2 光変調器，光スイッチ
5.3 半導体レーザーとデバイス
5.4 半導体超格子とその応用
5.5 モノリシック光集積回路と光電子集積回路
6. 分布屈折率形成技術
6.1 ガラス材料
6.2 有機ポリマー材料
7. エキシマレーザーによる光化学的加工技術
7.1 エキシマレーザーと光化学
7.2 エキシマレーザーによるメタンの酸化
7.3 Si2H6 の光分解によるシリコン薄膜の形成
7.4 PMMAのフォトエッチング
7.5 ホログラフィックグレーティング
7.6 XeF エキシマレーザーによる樹脂凸版の直接製版
7.7 直接描画によるガラス質膜の形成
7.8 KrF エキシマレーザーの殺菌効果
8. 電子ビーム加工技術
8.1 電子ビームリソグラフィーの主要工程
8.2 電子ビーム描画技術
8.3 光IC用素子の再
8.4 光IC用グレーティング素子の例
8.5 マイクロフレネルレンズ
9. 光CVD技術
9.1 光CVDの原理と種類
9.2 装置
9.3 シリコン薄膜の形成
9.4 金属薄膜の形成
9.5 誘電体薄膜の形成
9.6 光エッチング
9.7 レーザー分光法による反応診断
10. イオンビーム技術
10.1 イオンを利用した技術
10.2 シャワーイオンビームエッチング法
10.3 イオンビームリソグラフィー
10.4 集束イオンビーム法
10.5 マスクレスプロセス
10.6 表面改質
11. 索 引
【編集】
応用物理学会光学懇話会
【著者】
有 本 昭， 伊 賀 健 一
泉 谷 徹 郎， 小 川 智 哉
小 椋 行 夫， 古 室 昌 徳
小 池 康 博， 國 分 泰 雄
庄 野 裕 夫， 栖 原 敏 明
多 田 邦 雄， 豊 田 浩 一
中 島 俊 典， 西 澤 紘 一
西 原 浩， 英 貢
宮 田 清 蔵， 南 節 雄
目次
１ 総論―オプトエレクトロニクスデバイスと材料
２ 結晶光学材料
３ 光学ガラス材料
４ 光・電子機能性高分子
５ 光デバイス用半導体材料
６ 分布屈折率形成技術
７ エキシマレーザーによる光化学的加工技術
８ 電子ビーム加工技術
９ 光ＣＶＤ技術
１０ イオンビーム技術
