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半導体プロセス

西澤潤一編 ; [その1], その2, その3. -- 工業調査会, 1979. -- (半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 16巻, 19巻, 22巻 . 超LSI技術 ; 3, 6, 9). <BB00563348>
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半導体プロセス

西澤潤一編 ; [その1], その2, その3. -- 工業調査会, 1979. -- (半導体研究 / 半導体研究振興会編 ; 16巻, 19巻, 22巻 . 超LSI技術 ; 3, 6, 9). <BB00563348>
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所蔵一覧 1件～7件（全7件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 返却予定日 予約
0001 [その1] 仙台(名取) (名取)2F開架書架 549.8||ハン||16 900021310 0件
0002 [その1] 仙台(広瀬) (広瀬)第一書庫 549.8||H29||16 S00019414 0件
0003 その2 仙台(広瀬) (広瀬)一般図書 549.8||C3||3 S00033730 0件
0004 その2 仙台(広瀬) (広瀬)第一書庫 549.8||H29||19 S00019417 0件
0005 その3 仙台(名取) (名取)2F開架書架 549.8||ハン||22 020030577 0件
0006 その3 仙台(広瀬) (広瀬)一般図書 549.8||N14||1 S00033948 0件
0007 その3 仙台(広瀬) (広瀬)第一書庫 549.8||H29||22 S00019420 0件
No. 0001
巻号 [その1]
所蔵館 仙台(名取)
配置場所 (名取)2F開架書架
請求記号 549.8||ハン||16
資料ID 900021310
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
No. 0002
巻号 [その1]
所蔵館 仙台(広瀬)
配置場所 (広瀬)第一書庫
請求記号 549.8||H29||16
資料ID S00019414
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
No. 0003
巻号 その2
所蔵館 仙台(広瀬)
配置場所 (広瀬)一般図書
請求記号 549.8||C3||3
資料ID S00033730
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
No. 0004
巻号 その2
所蔵館 仙台(広瀬)
配置場所 (広瀬)第一書庫
請求記号 549.8||H29||19
資料ID S00019417
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
No. 0005
巻号 その3
所蔵館 仙台(名取)
配置場所 (名取)2F開架書架
請求記号 549.8||ハン||22
資料ID 020030577
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
No. 0006
巻号 その3
所蔵館 仙台(広瀬)
配置場所 (広瀬)一般図書
請求記号 549.8||N14||1
資料ID S00033948
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
No. 0007
巻号 その3
所蔵館 仙台(広瀬)
配置場所 (広瀬)第一書庫
請求記号 549.8||H29||22
資料ID S00019420
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 半導体プロセス / 西澤潤一編
ハンドウタイ プロセス
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1979.8-1985.8
形態事項 3冊 ; 27cm
巻号情報
巻次等 [その1]
巻号情報
巻次等 その2
ISBN 4769310250
巻号情報
巻次等 その3
ISBN 4769310463
書誌構造リンク 半導体研究 / 半導体研究振興会編||ハンドウタイ ケンキュウ <BB00473039> 16巻, 19巻, 22巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 3, 6, 9//bb
注記 各章末: 参考文献
学情ID BN00178154
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 西澤, 潤一(1926-)
ニシザワ, ジュンイチ <NC:DA00235944>
分類標目 NDC6:549
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
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