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ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法

小林春洋〔ほか〕著. -- 日刊工業新聞社, 1984. <BB00956734>
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ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法

小林春洋〔ほか〕著. -- 日刊工業新聞社, 1984. <BB00956734>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 返却予定日 予約
0001 仙台(名取) (名取)2F開架書架 549.8||トラ 900021487 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 仙台(名取)
配置場所 (名取)2F開架書架
請求記号 549.8||トラ
資料ID 900021487
状態
コメント
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法 / 小林春洋〔ほか〕著
ドライ プロセス オウヨウ ギジュツ : チョウビサイ ソシ ノ セイホウ
出版・頒布事項 東京 : 日刊工業新聞社 , 1984.7
形態事項 199,6p ; 22cm
巻号情報
ISBN 4526017442
学情ID BN00036182
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 小林, 春洋(1925-)
コバヤシ, ハルヒロ <NC:DA00045891>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 科学技術 NDLC:ND354
件名標目等 電子部品||デンシブヒン
件名標目等 薄膜||ハクマク
件名標目等 印刷回路||インサツカイロ
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