内容説明
半導体集積回路の発展を支えてきたのは、微細なパターンを造り出す半導体リソグラフィ技術である。本書はこの変遷の激しいリソグラフィ技術の全貌を解説したもの。具体的には、光、電子線、Ｘ線・ＥＵＶなど様々なリソグラフィ技術の原理、特徴などを述べるとともに、パターン形成に重要なマスク技術、レジスト技術、計測評価技術についてふれ、さらに今後の課題と展望についても詳細に解説している。
目次
第１章 半導体集積回路の発展とリソグラフィ技術
第２章 光リソグラフィ技術
第３章 電子線リソグラフィ技術
第４章 Ｘ線・ＥＵＶリソグラフィ技術
第５章 その他のリソグラフィ技術
第６章 マスク技術
第７章 レジスト技術
第８章 評価計測技術
第９章 リソグラフィ技術の今後の課題と展望
