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	プラズマプロセシングの基礎 Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳. -- 電気書院, 1985. <BB01306183> 便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じる詳細情報を見る書誌URL：

プラズマプロセシングの基礎 Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳. -- 電気書院, 1985. <BB01306183> 便利機能：エクスポート先選択エクスポート先を選択してください。このウインドウを閉じる詳細情報を見る書誌URL：

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No.	巻号	所蔵館	配置場所	請求記号	資料ID	状態	コメント	返却予定日
0001		旭川高専	開架書架	427.6\|\|G\|\|Chap	1074817	貸出中		2999/1/1


No.	0001
巻号
所蔵館	旭川高専
配置場所	開架書架
請求記号	427.6\|\|G\|\|Chap
資料ID	1074817
状態	貸出中
コメント
返却予定日	2999/1/1

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書誌詳細

標題および責任表示

プラズマプロセシングの基礎 / Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳
プラズマプロセシングノキソ

出版・頒布事項

東京 : 電気書院 , 1985.11

形態事項

13, 391p ; 22cm

巻号情報

ISBN	4485661180

その他の標題

原タイトル:Glow discharge processes : sputtering and plasma etching

注記

Glow discharge processes, c1980 の翻訳

注記

参考文献: p[357]-386

学情ID

BN00319697

本文言語コード

日本語

著者標目リンク

Chapman, Brian N. <NC:DA00387104>

著者標目リンク

岡本, 幸雄
オカモト, ユキオ <NC:DA00387137>

分類標目

電磁気学 NDC8:427.6

分類標目

科学技術 NDLC:MC241

件名標目等

プラズマ||プラズマ

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